【特徴】各種成膜用基板として使用されています。【仕様】仕様：CaF2基板サイズ：10×10×0.5mm方位：（100）研磨：片面鏡面入数：1枚 AXEL・カタログ掲載商品以外にも下記のとおり多数単結晶基板を取り扱っております。①酸化物単結晶Anatase（アナターゼ）、CoO（酸化コバルト）、Cr2O3（酸化クロム）、Cu2O（酸化銅）、DyScO3（スカンジウム酸ジスプロスイム）、Fe2O3（三酸化二鉄）、Fe3O4（四酸化三鉄）、GdScO3（スカンジウム酸ガドリニウム）、KTaO3（タンタル酸カリウム）、LaSrAlO4（ランタンストロンチウムアルミネート）、LaSrGaO4（ランタンストロンチウムガレート）、MnO（酸化マンガン）、NdScO3（スカンジウム酸ネオジウム）、NiO（酸化ニッケル）、SGGG（置換型ガドリウム・ガリウム・ガーネット）、SnO2（酸化スズ）、YAG（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）、YAlO3（イットリウム・アルミネート）、など。②半導体単結晶Ge（ゲルマニウム）、GaP（ガリウムリン）、GaN（ガリウムナイトライド）、InP（インジウムリン）、SiC（炭化珪素）など。③フッ化物単結晶LiF（フッ化リチウム）、LaF3（フッ化ランタン）、MgF2（フッ化マグネシウム）、SrF2（フッ化ストロンチウム）、KBr（臭化カリウム）、KCl（塩化カリウム）、NaCl（塩化ナトリウム）など。④金属単結晶Ag（銀）、Al（アルミニウム）、Au（金）、Bi（ビスマス）、Cd（カドミウム）、Co（コバルト）、Cr（クロム）、Cu（銅）、Dy（ジスプロシウム）、Er（エルビウム）、Fe（鉄）、Gd（ガドリニウム）、Hf（ハフニウム）、Ho（ホロニウム）、In（インジウム）、Ir（イリジウム）、Li（リチウム）、Mg（マグネシウム）、Mo（モリブデン）、Nb（ニオブ）、Ni（ニッケル）、NiAl（ニッケルアルミニウム）、Pb（鉛）、Pd（パラジウム）、Pt（白金）、Re（レニウム）、Rh（ロジウム）、Ru（ルテニウム）、Sb（アンチモン）、Sn（スズ）、Ta（タンタル）、Tb（テルビウム）、Te（テルル）、Ti（チタン）、V（バナジウム）、W（タングステン）、Y（イットリウム）、Zn（亜鉛）、Zr（ジルコニウム）、合金結晶など。⑤その他ダイヤモンドなど。 ※ご注文、お見積りについて下記内容をご確認の上ご依頼ください。①結晶名（化学式）②サイズ（縦横、または直径（mm））③厚み（mm）④方位　例：（100）、（110）、（111）※金属単結晶の場合は、右記方位精度の選択をお願いします。（±0.1°、±0.4°、±1°、±2°）⑤表面仕上（片面鏡面、両面鏡面、粗面（未研磨）、切断）⑥数量⑦その他（面内方位の有無、穴あけ加工など）